的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机是半导体产业中最关键设备，光刻工艺决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗。

　　光刻机产业的上游主要包括光刻机核心组件和光刻机配套设施，下游则主要应用于半导体/集成电路的制造与封装。

　　从政策环境上来看，我国对于光刻机行业较为重视。其主要表现在对于整个IC产业链企业的政策优待以及对于半导体设备行业的相关规划与推动。其主要表现在资金方面的补助和人才方面的培养，以及进出口，投融资方面的政策扶持。

　　在各项政策中较为突出的是《极大规模集成电路制造装备及成套工艺》项目（02专项），其以专项的形式组织了一批国内光刻机企业进行了一系列重点工艺和技术的攻关，有效促进了我国光刻机行业的发展。

　　光刻工艺流程较多，占晶圆制造耗时的40%-50%，光刻技术也在不断的发展，自光刻机面世以来，光刻设备已经进行了四次重大的革新，光刻设备所用的光源，也从最初的g-line，i-line历经KrF、ArF发展到了如今的EUV。目前，EUV光刻机设备被ASML完全垄断，ASML的EUV光刻机市占率达到100%。

　　目前，全球光刻机市场的主要企业即ASML，尼康（Nikon）和佳能（Canon）三家，从光刻机销售额来看，2019年三家企业的合计市场份额就占到了全球光刻机市场的90%以上。其中ASML由于其技术领先，垄断了第五代光刻机（EUV光刻机），独占75%的市场份额，Nikon与Canon分别占据13%和6%的市场份额。

　　从细分市场来看，近年来，市场上销售的光刻机主要为EUV光刻机、ArF lm光刻机、ArF Dry光刻机、KrF光刻机和i-line光刻机。从2019年这五类光刻机的销量情况来看，i-line光刻机的销量最高，为116台。在这116台中，Canon公司贡献了一半以上。

　　从企业的角度来看，Canon主要的光刻机销售都集中在i-line光刻机这一类型;Nikon的光刻机销售则纵向跨度较大，在除EUV之外的类型均有涉及，其中以Arf和i-line的领域较为突出;ASML则在除i-line光刻机之外的领域均具有较强的统治力。

　　从行业供给来看，2014-2018年，光刻机top3企业销售量呈现波动增长的态势。2019年，光刻机销售量有所下滑，仅为354台，较2018年下降了3.8%。2020年第一季度，全球光刻机top3企业销售量实现85台。

　　长期以来，我国的光刻技术落后于先进国家，成为我国工业现代化进程的一块短板。近年来，在国家政策的扶持以及一批龙头企业的带领下，我国光刻机技术也开始了飞速的发展，由长春光机所牵头承担的国家科技重大专项02专项——“极紫外光刻（EUVL）关键技术研究”项目也顺利完成了验收前现场测试。

　　但我国企业在光刻机制造方面距离世界头部企业仍有一定的距离，光刻机行业研发进度仍待加快。

　　工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。该项目坐落于北京怀柔雁栖湖畔，是国家“十三五”重大科技基础设施，它是

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　　技术从存储领域开始突围 /

　　将于今年出货，与ASML的EVU设备竞争市场，因为世界各地的经济体都热衷于扩大其本土芯片产能。 佳能董事长兼首席执行官Hiroaki

　　是微电子制造的关键设备，广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中，

　　结构及IC制造工艺工作原理 /

　　，大家还记得美国荷兰日本的三方协议吗？来回忆一下。 随着芯片在各个领域的重要性不断提升，人们对芯片制造的关注也日益增加。 但半导体产业链非常复杂，不仅仅涉及到底层的架构设计，还需要通过

　　激增10多倍后，美国官员联系了荷兰政府。荷兰外交发言人表示，出口许可证是根据荷兰国家安全逐案评估的。

　　的“心脏”，也是集成电路制造过程中不可或缺的关键设备。尽管国在半导体领域取得了显著进展，但在

　　之路如此崎岖？ /

　　有半导体工业“皇冠上的明珠“之称，是高速生产芯片所需要的最关键和最复杂的设备之一（一台

　　被荷兰公司ASML垄断（中低端产品美国、日本和中国均能生产），而绝大部分的组件供应商又被美

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　　从试验机改良成量产机，需要与产线相结合试验生产，这些步骤是不可能秘密进行的。

　　现状 /

　　工艺详细流程图 /

　　已由荷兰ASML、日本尼康和佳能公司完全垄断。10nm节点以下，ASML稳稳占据100%的市场，佳能和尼康等同业竞争对手难以打破这样的局面

　　怎么样了？ /

　　掩模台系统中的应用 /

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