半导体它是一种电导率在绝缘体至导体之间的物质，它其中的电导率容易受控制，但也是作为信息处理的元件材料。芯片则是半导体里的一个集大成者，而现在芯片的利用率非常的高，必然，如果要想有一些技术领域的突破，就势必要在芯片领域有所发展。

　　那让我们了解一下光刻机，光刻机又名，掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等等。常用的光刻机是掩膜对准光，所以叫 Mask Alignment System。简单明了的说，光刻机就是在制造芯片时是一个不可或缺的工具，因为没有光刻机就等于没有芯片。

　　荷兰的大多部分芯片公司都是使用其ASML进行缔造的，并且得到了EUA光刻机的支持，以用于芯片缔造技术。该光刻机的技术发展非常的先进，再加上荷兰公司已经在很多方面供应了支持，因此光电子学的发展有了巨大的进步。他们的公司可以制造可以达到5纳米的芯片，而这种技术在全球范围内得到了宽泛报道。

　　目前中国唯一可以缔造光刻机的厂商是位于上海，上海微电子，也是目前中国独一无二的光刻机缔造厂商。上海微电子与荷兰ASML的成立时间有较大的差别，时间于2002年是上海微电子的成立，而时间于1984年是荷兰的ASML的成立，对比来说，1984-2002，我国光刻机的研发起步晚了荷兰近20年，但是没关系，上海微电子成立以来发展较快，正在全力追赶荷兰ASML。

　　历经多年的自主创新不断发展进步，目前我国上海微电子已经掌握了先进封装光刻机，高亮度LED光刻机等高端智能制造领域的先进技术！随着我国越来越多的才子，目前上海微电子人才队伍和管理团队也逐渐扩大。

　　虽然目前我国光刻机跟荷兰光刻机还是有一定的差距，但是上海微电子也不会停止进步的脚步，上海微电子也正在全力追赶着，愿尽量早日能成为顶尖机器！但是这种顶尖机器的研发需要长期的技术累积，绝不是一蹴即至的。祝愿我国发展越来越好！

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