光刻机，又称掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，是制造芯片与半导体的核心装备，其工艺水平决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗。其产品按有无掩模可分为有掩模光刻机和无掩模光刻机两大类。

　　从全球范围内来看，IC前道光刻机技术最为复杂，但随着相关技术水平的不断提高，其产品销量不断增长。数据显示，2016-2018年全球IC制造前道光刻机销量整体处于上升趋势，2018年出货量达到374台；2019年略有下降，出货量为359台。

　　目前全球光刻机市场主要由荷兰的ASML、日本的NIKON和CANON所占据主动权，呈三足鼎立局面。其中，在2019年全球光刻机市场竞争格局中，荷兰ASML公司市场份额占比最大。

　　数据显示，2014-2018年，全球光刻机Top3企业销售量呈现波动增长的态势,2019年有所下滑，销售量为354台，同比下降3.8%。截止到2020年Q1，全球Top3企业销售量实现85台。

　　从国内角度来看，由于光刻机是半导体产业中的关键设备，光刻机行业成为我国重点发展产业，我国政府相关部门积极出台政策及措施，在资金、人才、进出口以及投融资等方面提高支持。

　　长期以来，我国的光刻技术落后于先进国家，但在政策驱动下，行业相关企业正在加快研发进度。目前，在我国光刻机市场中，上海微电子(SMEE)一枝独秀，成为最有竞争优势的企业。2020年6月初，上海微电子宣布将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产浸入式光刻机，预示着国产光刻机有望从此前的90nm工艺一举突破到28nm工艺。随着技术水平的不断提高，我国光刻机市场竞争力也将得到增强。

　　相关行业分析报告参考《2020年中国光刻机市场调研报告-市场竞争格局与发展动向研究》。